科研成果
 
 
 
 
现在位置:首页 > 科研成果 > 专著
 
专著名称:
CMOS技术高k栅介质High-k Gate Dielectrics for CMOS Technology
研究中心:
首席研究员:
主编单位: CMOS技术高k栅介质High-k Gate Dielectrics for CMOS Technology
出版时间: 2012-08-01
出版社:
主编:
编写人员: 王文武
总字数:
编者字数:
著作性质: 微电子学
编辑出版单位: CMOS技术高k栅介质High-k Gate Dielectrics for CMOS Technology
出版资助单位:
再版次数:
印刷数量:
参编内容: CMOS技术高k栅介质
著作简介:
其它备注: 国外出版-外文