研究队伍
 
 
 
 
 
 
 
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姓 名:
韦亚一
性    别:
职 务:
课题负责人、02项目首席科学家
职    称:
研究员
学 历:
博士
通讯地址:
北京市朝阳区北土城西路3号
电 话:
+86-10-82995898
邮政编码:
100029
传 真:
+86-10-82995684
电子邮件:
weiyayi@ime.ac.cn

所属部门:
集成电路先导工艺研发中心(十室)
简历:

  教育背景:

  1998毕业于德国马普固体所/德国斯图加特大学,获理学博士学位

  1992毕业于中国科学院电子学研究所,获工学硕士学位

  工作简历:

  2013年 – 至今: 中国科学院微电子研究所研究员、博士生导师;国家科技重大专项“300mm晶圆匀胶显影设备”首席科学家(沈阳芯源微电子设备公司),2012年9月入选第八批千人计划。

  2009年 – 2013年: 美国格罗方德纽约研发中心光刻经理。

  2007年 – 2008年: 美国安智公司新泽西研发中心,高级科学家(Senior Staff Scientist)。

  2001年 – 2007年: 德国英飞凌公司美国纽约研发中心,高级工程师(Senior/Staff Engineer)。

  1998年 – 2001年: 美国能源部橡树岭国家实验室,博士后

研究方向:

193nm浸没式光刻工艺
光学邻近效应修正(optical proximity collection
光刻材料研发和评估;匀胶显影设备(track)研发

学科类别:
社会任职:
获奖及荣誉:
代表论著:
Advanced processes for 193nm immersion lithography SPIE Press 2009
承担科研项目情况:
备注:
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