研究队伍
 
 
 
 
 
 
 
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姓 名:
杜寰
性    别:
职 务:
职    称:
研究员
学 历:
通讯地址:
北京市朝阳区北土城西路3号
电 话:
邮政编码:
100029
传 真:
电子邮件:
duhuan@ime.ac.cn

所属部门:
硅器件与集成技术研究室(一室)
简历:

毕业院校:       中国科学院物理研究所
学  历 :      博士
1999.12——2002.9在英国作博士后

 

1999年12月至2002年9月在英国的Plymouth大学、电子工程系作博士后,主要从事薄膜记录磁头的制备和具有高磁矩磁性材料的软磁特性的研究。
2002年九月,本人被招聘到中科院微电子研究所、硅器件与集成技术研究室。主要从事磁随机存储器驱动电路、平板显示驱动电路半导体功率器件等方面的研究工作。

研究方向:

 存储器驱动电路、平板显示驱动电路、功率器件

学科类别:
凝聚态物理
社会任职:
获奖及荣誉:
代表论著:

(1)Fabrication of Submicron Trackwidth Thin-film Head and its Inductance-Saturation Characteristics
H. Du, D.X. Wu, G. Pan Y. Xia, Z.S. Han
J. Magnetism and Magnetic Materials 279(2004)59-63.
(2)Pt/Co Mutilayer Dots Array Patterned by laser Interference and Investigation of Its Magnetic Domain Structure
H. Du, Y. Xia, Z.S. Han, and D.X. Wu
2003 12th National Conference on Electron, Ion, and Photon Beam Proceedings, 321(2003)
(3)磁存储器驱动电路界面平坦化研究
杜寰, 赵玉印, 韩郑生, 夏洋, 张志纯
半导体学报,2006,27(13)358-360。
(4)The effect of substrate-bias and magnetic annealing on soft magnetic properties of rf-sputtered Fe49Co49V2 films.
H. Du , G. Pan, and R. Buckley
J. Appl. Phys. 91 (10): 7827-7829 Part 3 MAY 15 2002
(5)(FeCo/Co-M)n soft magnetic multilayers with uniaxial anisotropy and very high saturation magnetization.
It has been accepted by J.Appl. Phys. On 4 Feb. 2003
H. Du and G. Pan.
Fabrication and Properties of Nb/AlO-AlOx/Ti Junction For   Microbolometers and Microrefrigerators H. Du, S.P. Zhao , G.H.Chen, and Q.S. YangAppl. Phys. Lett. 72 ( 1998 ) 3062-3064
Tunnelling Studies of Nb/Al Superconducting Proximity-effect Bilayers H. Du, S.P .Zhao, R.F. Wang, F.Z. Xu, G. H. Chen, and Q.S.Yang Physica C 282-287 ( 1997 ) 2445-2446

承担科研项目情况:

 2002年-2006年,与物理所合作参与“973”项目“自旋电子材料、物理及器件研制”,2003年—现在,与中山大学合作承担了“973”项目“新型场发射平板显示和微显示的基础研究”,2003年—现在,与清华大学合作承担了“973”项目“高性能电子产品设计制造精微化、数字化新原理和新方法”以及本所支撑研发的“SOI RF LDMOS 功率器件及其集成技术的研究”等项目。

备注:
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